请教,薄膜湿热试验为什么会膜裂?:如题,基底是有色玻璃,镀mgf2,sio2单层膜,做湿热试验,标准上写在40度90%湿度24小时不脱膜,然后我在这环境下放了几天,膜裂挺严重的,有的是密密麻麻的小细裂纹,有的是大裂纹,但是为啥会裂呢,是膜层太松散吸水后裂开了还是有应力啥的,求解,下图是10倍放大镜下的照片
氟化物属于软膜 吸潮容易出现问题
xiaohuilee 发表于 2012-10-23 13:46 
氟化物属于软膜 吸潮容易出现问题
哦,可是sio2单层膜的也都裂了
玻璃是加热到多少度镀的?有无使用离子源?SIO2的镀膜速率是多少?
geyingji 发表于 2012-10-23 14:43 
哦,可是sio2单层膜的也都裂了
MGF2 基地温度要大于150 才能镀出来坚硬的膜 SIO2 是否冲O2了 速率怎样
如果使用了离子源 就增加离子源的能量 增加充气量
40度90%湿度 不是高的要求,工艺有问题,调整蒸发速率看看
ouyuu 发表于 2012-10-23 23:03 
玻璃是加热到多少度镀的?有无使用离子源?SIO2的镀膜速率是多少?
这个我不太清除啊,是外面镀的,我们拿回来测,只知道他没有离子源,就是电子枪蒸的,速度啥的都不知道
xiaohuilee 发表于 2012-10-24 08:14 
MGF2 基地温度要大于150 才能镀出来坚硬的膜 SIO2 是否冲O2了 速率怎样
这些我都不知道啊,别人镀的,让我分析原因,sio2肯定没有充氧,如果要求抗潮能力强的话是不是要膜越致密越好
這個問題的重點是因為基板是有色玻璃。換普通玻璃用同樣的鍍膜制程就沒問題了!
geyingji 发表于 2012-10-24 09:45 
这些我都不知道啊,别人镀的,让我分析原因,sio2肯定没有充氧,如果要求抗潮能力强的话是不是要膜越致密 ...
那就简单了 退货就好了 不是你们自己做的 你怎么分析
zhenxing 发表于 2012-10-24 11:36 
這個問題的重點是因為基板是有色玻璃。換普通玻璃用同樣的鍍膜制程就沒問題了!
也有基板是普通玻璃的,介质滤光片,就是裂的不是很厉害,也没那么快,差不多做1个星期有的裂纹
geyingji 发表于 2012-10-24 16:46 
也有基板是普通玻璃的,介质滤光片,就是裂的不是很厉害,也没那么快,差不多做1个星期有的裂纹
那是因為介質Filter沒有IAD的原因才會裂的,如果普通玻璃用同樣的制程呢?
樓主供貨商的設備太差了,若有需求量大的產品可以找我們代工。
zhenxing 发表于 2012-10-24 16:52 
那是因為介質Filter沒有IAD的原因才會裂的,如果普通玻璃用同樣的制程呢?
樓主供貨商的設備太差了,若有 ...
介质滤光片是另外一个国外的公司买的,做一两天湿热试验没啥事,时间长了也不行,我是把很多不同厂子镀的放到一起做的试验,只有一两片没有裂,以前看膜裂都是说应力啥的,感觉潮湿对薄膜的影响挺大的,这方面资料也没找到,就是不太明白为什么潮湿会使膜裂呢,什么原理呢
用离子源会好些。
一个是膜层更致密,另外一个颜色更透明。
镀SIO2的时候,是离子形式沉积的,会发生一些不均匀的情况,
这时候补些氧会有好处。
ouyuu 发表于 2012-10-25 22:41 
用离子源会好些。
一个是膜层更致密,另外一个颜色更透明。
镀SIO2的时候,是离子形式沉积的,会发生一些 ...
我没太听明白,你说的“镀sio2的时候,是离子形式沉积的,会发生一些不均匀”是说离子溅射镀膜不均匀么?我看好多说蒸发镀氧化物容易失氧然后才充的氧,然后也做离子辅助的工作气体。假如用离子溅射充氩气可不可以?对sio2有没有影响?
ps:先谢过各位了,给了很多好的建议和改善方法~~先歇个周末再说,哈哈,周末愉快~
哈哈,楼上最经典,退货.膜裂一般都是吸潮后出现的状态,用离子源镀的基本没这个问题,当然也要看你用的什么离子源还有功率的问题,SIO2冲氧不够也有这个问题,MGF2的基底温度不够也会造成膜硬度不够.
geyingji 发表于 2012-10-26 16:16 
我没太听明白,你说的“镀sio2的时候,是离子形式沉积的,会发生一些不均匀”是说离子溅射镀膜不均匀么? ...
镀膜其实是一种气相沉积。
镀膜时并不存在SIO2分子,
而是SI离子和O离子的形式蒸发上去的,
因为电场作用,难免会发生一些沉积不均匀的情况———
有的地方SI多一些,有的地方O多一些
(多余的O变成气体跑掉了,所以不会带来问题,但SI过多颜色会发黑)
用O2做气源,用离子辅助镀膜,就是避免发生SI过多的情况,
离子源的另一个好处是膜更致密。
离子源有两个指标,阳极电流和阳极电压,
电流和离子密度成正比,电压和离子速度成正比。
ouyuu 发表于 2012-10-26 21:07 
镀膜其实是一种气相沉积。
镀膜时并不存在SIO2分子,
而是SI离子和O离子的形式蒸发上去的,
啊,为什么没有sio2分子啊,不是加热让sio2升华么,我理解的是太热的话sio2会分解成sio或者si和o2,但是不能全是离子吧(就拿普通的电子束蒸发来说)
1、镀氟化镁,基底温度应在250~300度,且镀膜时真空度要高;
2、sio2镀膜出现脱模,与加工工艺条件关系较大。
是啊,不是自己镀的,怎么找原因啊
chao_li0622 发表于 2012-11-20 18:43 
是啊,不是自己镀的,怎么找原因啊
是啊,我也查了些资料,加上好多的回帖,也大概了解保证薄膜稳定性、抗潮的一些工艺要素。但主要不是让我找镀膜工艺导致薄膜受潮膜裂的原因(像衬底温度、离子源辅助之类的),是为什么薄膜受潮会膜裂,因为是我做得湿热试验,要解释这个现象,您能明白我的意思么,比如说是因为薄膜缝隙吸水后应力变大、还是说膜料会水解之类的。