在使用532激光切割薄膜太阳能电池板上的硅层及金属层时,有报道说要使用圆形的masked beam。请问各位大大,什么是masked beam?是不是从高斯光束整形而来的平顶光束?我一知半解,不能确定,烦请高人点破。
顺便附上两份光束整形的资料。虽说都是关于准分子激光整形的,但可以参考。
[ 本帖最后由 再也不能这样 于 2008-8-8 17:21 编辑 ]
本帖最后由 再也不能这样 于 2010-4-1 14:16 编辑
薄膜太阳能电池激光刻膜时希望速度快,刻线尽量细,线条内要求效果均匀,边缘锐利,因此希望用平顶光束,且最好的方形平顶光束。通常做法是将高斯光束经光束整形器整形为平顶光束。但通常整形器的“有效平顶距离”(即输出光束保持平顶分布的工作距离范围)有限,因此给应用系统的设计带来很多不便,如一分二(一个激光器分出两路光提高刻膜效率),一分四系统可能需要二个或四个昂贵的光束整形器。
据一些用户反映,将整形获得的平顶光束聚焦时,问题更严重。平顶光束的焦深小于高斯光束的焦深。稍稍离开焦点后平顶的效果即大打折扣。现在的薄膜太阳能电池玻璃基板尺寸动辄几米,在镀上TCO等膜层后因应力作用会使玻璃变形,刻膜划线时工作距离随之改变,脱焦可达一到两个毫米甚至更多。
一家名为Edge-Wave的德国公司生产的一系列激光器采用“innoslab”技术生产的激光器输出激光形貌即为方形平顶,其“有效平顶距离”及“平顶焦深”均大过光束整形器产生的光束,很适合刻膜应用。但目前市场上仅此一家公司生产此类激光器,价格昂贵。
本人做端泵激光器时发现通过调节端泵泵浦系统可获得接近平顶的输出。激光器同行们也许可以做做尝试。
对于焊接切割等应用,为防激光束失焦,通常会用机械滚轮臂、电感探测自动跟随式激光加工头,或光学测距自动跟随等方法保持工作距离恒定。但对刻膜应用,因玻璃材料测距难度较大,加上刻膜时速度很快,因而跟随难度较大。三维扫描头响应可能快些,但具体实现也不容易。
请内行人士做做分析想想办法。
http://www.pishaper.com/index.html
http://www.edge-wave.de/edgewave_e/technologie_e.htm
学习了,现在好像平顶光束整形的不多啊,国内的报道都是转化效率不高,上次在北京一个会议上听说可以设计出来效果很好的,但国内没有能加工的,国外需要几千美金的加工费,用的是好像是双镜片的结构