IR-CUT急:谢谢了,请给的意见呀,不然的话就死定了
吸收大
O2流量好象过大
离子源参数可能得调整.
你在镀TIO2和SIO2是的参数是一样的吗?
正常做的是不一样的.
你是哪家公司的,可以告诉我吗?
工艺参数没调整好,OS-50吸收太强!
有什么好的解决吗,哈哈,从设计到镀膜,我想可能都是重要的 关键是怎么调?
那个TOOLING怎么调呀,该调多少呀,谢谢了!
另外不用离子源能不能做出IR-CUT呢
我司在做400-700增透膜,要求每一点小于0.5%,我用al2o3 h4 mgf2 方法一;glass/mgf2 al2o3 h4 mgf2 方法二 glass/mgf2 al2o3 h4 al2o3 mgf2 但是效果不好,不知道物质和膜系是否有问题,谢谢师傅们的探讨
你是在那学的镀膜啊?怎么你的膜系跟我的这么大差异?不同的路啊!
你做的滤光片透过绿地我也感觉是OH-5的吸收所致,如果把这个问题解决掉就可以了, 另外你说的可见光范围内增透,必须采用非规整膜系,否则的话要达到指标比较难。
能否请教一下:你有膜系中的H4是什么?你所用的中心波长呢?你整规膜系具体点?看看我能否做?也许我能帮你。
请教你是怎么做的,说出物质和组合
我做IRCUT用AL2O3打底,然后H TI3O5,L SIO2组合,无离子源!35层,280摄氏度高温!
marcsle 发表于 2007-10-6 19:46 
我做IRCUT用AL2O3打底,然后H TI3O5,L SIO2组合,无离子源!35层,280摄氏度高温!
用280摄氏度高温吗?
我司用250摄氏度
我建议下次有这样的问题,最好是插入图片,不要以附件的形式,麻烦!

为什么第一层用氧化铝呀?
为了增加膜层牢固度?还是为了在尽量少的膜层下镀出要求的曲线呢?
这个不同的机台TOOLING 是不一样的 还有就是工艺参数也是不同的 所以还是要靠自己
弱弱地问一下:为什么要用AL2O3打底?先谢谢!
其实从设计上,AL2O3不起作用?